α対応SEM/EPMA
研磨したペレットの表面にカーボン蒸着を行ったのち、ミクロ観察よりもさらに高い倍率で局部組織の観察を行う装置。 2次電子像、反射電子像以外にも表面元素の定性分析などが行える。
この装置はα対応のため、試料ステージ部は、気密性の高いインナーボックス内に設置されている。
装置仕様概要
日本電子製 JSM 5410
SEM系
分解能
20 nm(ZnO)
倍率
×35〜50000
像の種類
二次電子像
反射電子凹凸像
反射電子組成像
電子光学系
加速電圧
5〜30 kV
電子銃
LaB6(熱電子放射型電子銃)
分析系
EDS(エネルギー分散型X線分析装置)
検出器
B窓 Si(Li)半導体
エネルギー分解能
150 eV(MnKα)
分析範囲
O〜Pu
放射線用コリメータ
φ0.5,1.0,1.5(mm)